雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備

離子束濺射沉積鍍膜原理是利用離子源產(chǎn)生的高能離子束轟擊置于高真空中的靶材，使靶材原子濺射直接沉積在襯底表面上，在襯底表面重新組合形成薄膜，該鍍膜技術(shù)是純物理過程，無環(huán)境污染、無交叉污染。基本功能1. 可用于在各種襯底材料上濺射沉積各種金屬、合金、化合物及半導(dǎo)體材料的單層薄膜、多層薄膜，也可將單質(zhì)材料通過反應(yīng)合成氧化物、氮化物、碳化物等薄膜；2. 與CVD和PVD等其他薄膜技術(shù)相比，具有薄膜材料最廣

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